电子厂净化车间设计特点及对环境的要求
发布时间:2017-03-30 浏览次数:6459
2017年环球资源香港移动电子展将于4月18日至21日在香港亚洲国际博览馆举办。作为亚洲规模很大的电子产品展览盛会,本次电子展不仅向广大用户展示众多未来创新的科技产品,同时也为众多买家提供了深入了解我国科技产品的机会,此次香港电子展也是国内外科技厂家和媒体备受瞩目的展会。众所周知,电子产品的生产环境要求非常严格,电子厂净化车间为电子产品满足质量要求提供了强有力的保障。
基于微电子和光电子加工工艺的精密化,微细化和规模化,就决定了其对生产环境的的要求就越来越高。电子厂净化车间对环境的要求可用净、精、纯、严四个字来形容。
净:电子厂净化车间,尤其是微电子前工序和光电子前工序的净化车间对环境洁净度的要求越来越净。例如,12吋园片超大规模集成电路前工序光刻间的洁净度要求高达1级(0.1µm)也就是每立方英尺空气中≥0.1 µm的粒子数不能超过1颗。相当于ISO 1级。特别重要的是它对环境空气提出了去除分子污染(SO2 , Nox , VOC ,NH3等)的要求。
精:电子厂净化车间生产工艺对环境空气温、湿度的控制精度要求越来越精。还以上述微电子的光刻间为例:其温度精度为±0.1℃,相对湿度的精度为±3%。
纯:大规模集成电路前工序对生产用的高纯水、高纯气体以及高纯溶剂的纯度要求越来越纯。例如:对高纯水而言,不仅对其电阻率有要求,而且对高纯水中所含粒子、细菌、重金属以及其他元素的离子成份都有严格的要求,随着电子厂净化车间的发展,对其纯度的要求也越来越高。可谓纯之又纯。
严:电子厂净化车间不仅对环境的洁净度,温、湿度有严格的要求,同时对环境的声(噪声)、光(照度)、电(静电)、磁(电磁场屏蔽)、振(微振)等都有严格的要求。尤其微电子生产,对环境的分子级污染提出了新的严格的要求。分子污染是指环境空气中要严格控制例如钠(Na)元素、碳(COx)元素、硫(SOx)元素、(NOx)元素等对半导体工艺有害的元素。因此电子厂净化车间在处理空气时,还要用淋水(淋自来水、淋纯净水)来吸收室外空气中的有害分子成份,和用化学过滤器来吸附新风中的有害分子成份。
随着人们生活水平的提高,科技的不断进步,人们对生存环境及各行业的产品质量要求越来越高,净化车间也随着高新技术产业的发展而不断进行着技术的完善。应用领域的日益扩大,也使用国内净化产业不断壮大。
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