我国的洁净工程技术的研究和应用开始于20世纪50年代末，第一个洁净工程于1965年在电子工厂建成投入使用，同一时期我国的高效空气过滤器(HEPA)研制成功投入生产。20世纪60年代是我国洁净技术发展的起步时期，在高效过滤器研制成功后，相继以HEPA为终端过滤的几家半导体集成电路工厂、航空陀螺仪仪器厂、单晶硅厂和精密机械加工企业的洁净工程建成。在此期间还研制生产了光电式气溶胶浊度计，用以检测空气中尘埃粒子浓度;建成了高效过滤器钠焰试验台，这样便为发展洁净技术建立了基本的手段。

从20世纪70年代末开始我国洁净技术随着各行业引进技术和设备的兴起得到了长足进步。1981年无隔板高效过滤器和液槽密封装置通过鉴定并投入生产，随后0.1pm高效空气过滤器研制成功，为满足超大规模集成电路的研制和生产创造了有利条件。80年代我国洁净技术和洁净厂房建设取得了明显的成果，在建设大规模集成电路工厂、研究所、彩色显像管工厂以及制药工厂的洁净工程工程、洁净手术工程的同时，建成了一批5级(100级)、6级(1 000级)的洁净工程，如500㎡的5级(100级)垂直单向流洁净工室、1080㎡的5级(100级)垂直单向流洁净室、5级(100级)水平单向流手术室等洁净工程的相继建成并投入使用，这些洁净工程的投入应用标志着我国的洁净技术发展进入了一个新的阶段。为了适应洁净技术发展的需要，同时也为了使洁净技术健康地发展，为各行各业在建设洁净工程时有法可依、有章可循，在总结我国发展洁净工程技术的经验基础上，吸取消化国际有关洁净工程建设的标准、规范的规定，于1984年编制完成了我国首部《洁净厂房设计规范》 (GB] 73-84)。

随着超大规模集成电路生产技术持续飞速地发展， 20世纪90年代我国与国际知名公司合作或合资，建成一些集成电路工厂的高级别(0.1pm、 1级、10级)的洁净制造车间，这些洁净工程的投入使用，对促进我国洁净技术发展起到示范作用，但是集成电路产品加工技术更新速度十分迅速，对洁净生产环境提出更新、更高的要求，不但温度、相对湿度、防静电、防微振等要求控制在非常严格的范围内，而且对空气净化的控制范围已从尘粒发展到分子污染、化学污染，还要求提供对纯度、杂质含量的要求非常严格的超纯气体、超纯水等，为了面对这些要求，我国洁净技术工作者正在不断探索、研究，以求适应各行各业的需要。