关于光学微电子行业净化车间设计方案，主要是控制以下方面。

    A、净化车间设计方案的洁净度:

　　LCD制屏的简略流程为：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。

　　在本净化车间设计方案里是指末端工艺的一些净化车间，其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类净化车间主要是这类产品的冲压车间、组装等净化车间，其洁净度一般为万级或十万级。

　　B、净化车间设计方案室内空气参数要求：

　　(1)温湿度要求：温度一般为24+2℃，相对湿度为55+5%。

　　(2)新风量大。由于这类净化车间内，人员比较多，可以根据以下数值应取下列的最大值：非单向流洁净室总送风量的10-30%;补偿室内排风和保持室内正压值所需的新鲜空气量;保证室内每人每小时的新鲜空气量≥40m3/h。

　　(3)送风量大。为了达成净化车间设计方案中洁净度及热湿平衡，需要较大的送风量，就300平方米的车间，吊顶高度为2.5米的，如果是万级，送风量就需要300×2.5×30=22500m3/h的送风量(换气次数，是≥25次/h);如果是十万级净化车间，送风量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送风量(换气次数，是≥15次/h)。