新一代IC要求高品质的硅片，要求硅片具有高的面形精度和表面完整性。这对于洁净室设计提出了更高的要求，增加了施工、管理的难度和复杂性。那么，纳米芯片高洁净度洁净室应如何设计呢?

　　厂址选择

　　注意，这不是洁净室位置选择，而是厂址选择。在普通的低洁净度洁净室设计时，即便周边有污染源，但只要影响在可控范围内，比如设置绿化带减少污染，也可以建设洁净室。但是，高洁净度洁净室对厂址选择有严格的要求，应避开大气含尘浓度、空气中有害物质较少和周围环境无严重污染的地方，如农村、城市远郊等，远离铁路、码头、机场、交通要道以及散发大量粉尘、烟气和有害气体的工程、堆场等。

　　建筑布局

　　净化空调系统既要服从建筑总体布局，而建筑布局也要符合净化空调系统的原则，才能充分发挥相关功能的作用。因此，洁净室设计时，设计者要给建筑布局提出要求，使其符合洁净室原理。

　　平面布局

　　洁净室一般包括洁净区、准洁净区、辅助区三个部分。纳米芯片高洁净度洁净室设计时，一般将洁净区布置在厂区的中央，并且和其他的分区之间保持正压差。另外，动力厂房由于噪音、污染较大，在洁净室设计时，一般将之布置在与洁净室留有足够的距离。

　　管线管理

　　洁净室须敷设大量的风管，还要安设照明、电力、水力设施以及生产设备，因此管线十分的复杂。因此，洁净室设计时应采用隐蔽组织的方式：顶部技术夹层，房间技术夹层，技术夹道(强)，技术竖井。

　　满足纳米芯片生产的高洁净度需求十分的不容易，洁净室工程难度大，须选择高水平的洁净公司。润德净化位于泉城济南，持有国家空气净化工程二级资质，荣获ISO环境管理体系认证、ISO质量管理体系认证，技术实力雄厚，施工队伍精良，工程造价合理，在业内和客户中享有良好的声誉。